금속소재 탄탈륨 적용

금속소재 탄탈륨 적용

탄탈륨 타겟은 일반적으로 베어 타겟이라고 합니다. 먼저 구리 백 타겟으로 용접한 후 반도체 또는 광 스퍼터링을 수행하고 탄탈륨 원자를 산화물 형태로 기판 재료에 증착하여 스퍼터링 코팅을 구현합니다. 반도체 산업에서는 현재 금속탄탈륨(Ta)이 물리기상증착(PVD) 코팅과 배리어층 형성을 통해 타겟물질로 주로 사용되고 있다.

우리 모두 알고 있듯이 금속 탄탈륨의 성능은 상대적으로 안정적이지만 상대적으로 미세한 입자 크기를 가진 금속 탄탈륨 분말은 상대적으로 활동적이며 상온에서 산소 및 질소와 반응하여 탄탈륨 내 산소 및 질소와 같은 불순물 함량이 증가합니다. 가루. 고품질의 탄탈륨 타겟을 얻으려면 먼저 탄탈륨 분말의 불순물 함량을 줄이고 탄탈륨 분말의 순도를 높여야 합니다. 탄탈륨 분말과 탄탈륨 타겟의 품질을 향상하려면 탄탈륨 분말의 입자 크기를 줄이는 것이 매우 필요합니다.

탄탈륨 타겟은 주로 반도체 코팅, 광학 코팅, 장식, 평판 디스플레이, 기능성 코팅 및 기타 광학 정보 저장 공간 산업, 자동차 유리 및 건축 유리와 같은 유리 코팅 산업, 광통신에 사용됩니다.

반도체

PVD(물리적 기상 증착) 공정을 사용하면 탄탈륨 스퍼터링 타겟이 반도체 기판 위에 "스퍼터링"되어 구리 상호 연결을 보호하는 박막 확산 장벽을 형성합니다. 탄탈륨 스퍼터링 타겟은 자기 저장 매체, 잉크젯 프린터 헤드 및 평면 패널 디스플레이를 포함한 다양한 다른 제품에도 사용됩니다.

엔진 터빈 블레이드

높은 융점과 내식성 특성으로 인해 합금 응용 분야에 매우 적합합니다. 탄탈륨은 니켈 기반 초합금, 주로 항공기 엔진용 터빈 블레이드 및 육상 기반 가스 터빈에 사용됩니다.

화학 처리 장비

부식 및 고온에 대한 저항성이 매우 높기 때문에 금속은 화학 및 제약 산업의 용기, 파이프, 밸브 및 열교환기 라이닝에 이상적인 건축 소재입니다.

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