화학 및 제약

물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 기술은 진공 상태에서 물리적인 방법을 사용하여 물질(고체 또는 액체) 표면을 기체 원자 또는 분자로 기화시키거나, 부분적으로 이온화하여 저압 기체(또는 플라즈마)를 통과시키는 공정을 말합니다. 기판 표면에 특수 기능을 가진 박막을 증착하는 기술이며, 물리 기상 증착은 주요 표면 처리 기술 중 하나입니다. PVD(Physical Vapor Deposition) 코팅 기술은 크게 진공 증착 코팅, 진공 스퍼터링 코팅, 진공 이온 코팅의 세 가지로 나뉩니다.

당사 제품은 주로 열 증착 및 스퍼터링 코팅에 사용됩니다. 증착에 사용되는 제품으로는 텅스텐 스트랜드 와이어, 텅스텐 보트, 몰리브덴 보트, 탄탈륨 보트 등이 있으며, 전자빔 코팅에 사용되는 제품으로는 캐소드 텅스텐 와이어, 구리 도가니, 텅스텐 도가니, 몰리브덴 가공 부품 등이 있습니다. 스퍼터링 코팅에 사용되는 제품으로는 티타늄 타겟, 크롬 타겟, 티타늄-알루미늄 타겟 등이 있습니다.

PVD 코팅