99.95% 단조 텅스텐 막대 광택 표면

텅스텐 막대는 높은 경도, 높은 융점, 내식성 및 우수한 내마모성의 특성을 가지고 있습니다. 텅스텐로드는 지지선, 인입선, 프린터 바늘, 각종 전극 및 석영로, 필라멘트, 고속 공구, 스퍼터링 타겟 등 다양한 분야에서 널리 사용됩니다.


  • 기준:ASTM 288-90, GB/T 4187-2017
  • 청정:99.95%
  • 지름:Ø1.0~80mm
  • 표면:단조 표면, 알칼리 세척 표면, 광택 표면
  • MOQ:1kg
  • 배달 시간:10~15일
  • 결제 방법:T/T, 페이팔, 알리페이, 위챗페이 등
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    제품 세부정보

    제품 태그

    텅스텐(W) 막대

    텅스텐 막대는 주로 텅스텐 금속으로 만들어지며 융점이 높고 경도가 높으며 밀도가 높으며 내마모성이 우수합니다. 이러한 특성으로 인해 텅스텐 막대는 고온, 압력 및 부식성 환경에서 잘 작동할 수 있습니다.

    텅스텐 막대는 전자, 항공 우주, 화학 산업, 의료 장비, 기계 가공 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다. 전자 산업에서 텅스텐 막대는 종종 전극, 접점, 진공 회로 차단기 및 기타 구성 요소를 만드는 데 사용됩니다. 항공 우주 분야에서 텅스텐 막대는 고온 합금, 로켓 노즐 및 기타 부품을 만드는 데 사용됩니다. 화학 산업에서는 텅스텐 막대가 부식 방지 부품을 만드는 데 사용됩니다. 용기, 파이프 등

    우리의 텅스텐 막대는 분말 야금법으로 제조되고 단조됩니다. 텅스텐 막대는 고순도, 고밀도 및 미세한 입자 크기를 가지고 있습니다. 우리는 단조 표면, 알칼리 표면, 광택 표면을 갖춘 텅스텐 로드를 제공합니다. 가장 경쟁력 있는 가격을 원하시면 당사에 문의하십시오.

    텅스텐(W) 막대 정보

    제품명 텅스텐 로드/바
    등급 W1, W2
    기준 ASTM 288-90, GB/T 4187-2017
    청정 99.95%
    밀도 19.3g/cm3
    녹는점 3410℃
    비등점 5660℃
    프로세스 소결, 단조, 스웨이징, 롤링, 폴리싱
    MOQ 1kg

    애플리케이션

    반도체 이온 주입 부품.
    전기 광원 및 전기 진공 부품.
    산업용 고온로 내화 부품.
    아르곤 아크 용접 및 저항 용접용 전극.
    텅스텐 쉴드 및 텅스텐 균형추.

    치수 공차

    지름

    (mm)

    검은 텅스텐 막대

    광택 텅스텐 막대

    직경 편차%

    진원도%

    직경 편차%

    진원도%

    0.8≤d≤3.0

    ±2

    2

    ±0.03

    0.03

    3.0

    ±2

    2

    ±0.05

    0.05

    6.5

    ±2

    2

    ±0.08

    0.08

    13.5

    ±2

    2

    ±0.15

    0.15

    25

    ±2

    2

    ±0.25

    0.25

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    영업관리자-Amanda-2023001

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